Sputtering Deposition System
고품질 박막 생성 시스템
막질이 매우 일정하며 대면적 SPUTTERING이 가능하며 Sputtering 박막개발 지원 제품에 따라 기능과 사양 설계가 가능하다.
특징
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01 고성능 이온빔 보조 증착
자체 개발한 고성능 이온빔과 전자빔 시스템으로 치밀하고 안정적인 증착이 가능하다. AR, AF, Dichroic, Deco, Black, IR-CUT 등 고신뢰성 다층 광학 박막 제품에 적합하다.
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02 ARC 이온플레이팅
아크와 마그네트론 스퍼터 증착의 조합으로 강한 에너지로 증착되기 때문에 고경도 칼라 구현이 가능하여 유리, 금속, 도자기 제품에 데코 칼라로 적용되고 있다.
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03 Thermal 증착
약품에 전기저항을 인가하여 저항열로 인해 재료를 기화시켜 코팅하는 방식으로 고객 요구 및 설비형태에 따른 다양한 구성이 가능하다. 주로 메탈, EMI 차폐 및 내지문 코팅 등에 적용이 가능하다.
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04 Magnetron 스퍼터링
플라즈마를 이용하여 증착하는 방식으로 에너지가 높아 막의 치밀도가 우수하고 광학박막 및 메탈 코팅이 가능하다. 또한 코팅 사이즈, Cathode수 등 고객의 Need에 따라 다양하게 구성이 가능하다.
적용범위
Anti-Finger coating on touch screen glass Hydrophilic plastic Metal.
Coating on flat panel display Solar cells.
Wear resistant coating.
Mirror coating.
EMI coating.
Low layer optical component coating.
Bio coating
